Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634932)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Известия высших учебных заведений. Серия "Химия и химическая технология"  / №7 2014

КИНЕТИКА И КОНЦЕНТРАЦИИ НЕЙТРАЛЬНЫХ ЧАСТИЦ В ПЛАЗМЕ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА ПОСТОЯННОГО ТОКА В МЕТАНЕ (90,00 руб.)

0   0
Первый авторСеменова
АвторыЕфремов А.М., Баринов С.М., Светцов В.И.
Страниц4
ID412608
АннотацияПроведено исследование стационарных параметров и состава плазмы CH4 в условиях тлеющего разряда постоянного тока (p = 40–200 Па, i = 30–70 мА). Получены данные по приведенной напряженности электрического поля и концентрации электронов. Проведен анализ кинетики процессов образования и гибели нейтральных частиц.
УДК537.525
КИНЕТИКА И КОНЦЕНТРАЦИИ НЕЙТРАЛЬНЫХ ЧАСТИЦ В ПЛАЗМЕ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА ПОСТОЯННОГО ТОКА В МЕТАНЕ / О.А. Семенова [и др.] // Известия высших учебных заведений. Серия "Химия и химическая технология" .— 2014 .— №7 .— С. 44-47 .— URL: https://rucont.ru/efd/412608 (дата обращения: 29.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

УДК537.525 О.А. Семенова, А.М. Ефремов, С.М. Баринов, В.И. Светцов КИНЕТИКА И КОНЦЕНТРАЦИИ НЕЙТРАЛЬНЫХ ЧАСТИЦ В ПЛАЗМЕ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА ПОСТОЯННОГО ТОКА В МЕТАНЕ (Ивановский государственный химико-технологический университет) e-mail:oa-semenova@mail.ru Проведено исследование стационарных параметров и состава плазмы CH4 в условиях тлеющего разряда постоянного тока (p = 40–200 Па, i = 30–70 мА). <...> Получены данные по приведенной напряженности электрического поля и концентрации электронов. <...> Проведен анализ кинетики процессов образования и гибели нейтральных частиц. <...> Ключевые слова: метан, константа скорости, ионизация, диссоциация ВВЕДЕНИЕ Низкотемпературная газоразрядная плазма CH4 и его смесей с инертными и молекулярными газами применяется в технологии современной оптоэлектроники для «сухого» структурирования поверхности полупроводников типа A2B3 и A3B5 [1,2], а также оксидов цинка, индия и олова [3]. <...> Основным преимуществом метансодержащих газовых систем здесь является сочетание высокой анизотропии и полирующего характера травления [4]. <...> Кроме этого, чистый метан и смеси на его основе используются для плазмохимического осаждения поли- и монокристаллических алмазоподобных углеродных пленок [5]. <...> Эффективное использование и оптимизация всех упомянутых технологий требуют понимания механизмов физикохимических процессов, формирующих стационарные параметры и состав плазмы. <...> Одним из инструментов получения такой информации является моделирование плазмы. <...> Из анализа работ [6-13] можно заключить, что плазма метана является многокомпонентной системой, стационарный состав которой формируется совокупностью радикально-цепных процессов. <...> Существующие на текущий момент работы по моделированию плазмы метана и смесей на его основе имеют несколько недостатков. <...> Вопервых, во всех работах используются кинетические схемы с различными наборами реакций и/или констант скоростей для близких диапазонов условий. <...> Во-вторых, авторы часто используют <...>