№ 1 ХИМИЧЕСКАЯ ФИЗИКА, ФИЗИЧЕСКАЯ КИНЕТИКА И ФИЗИКА ПЛАЗМЫ Радиальная неоднородность параметров плазмы в индуктивном ВЧ-разряде низкого давления Е.А. Кралькинаa , П.А. Неклюдоваb , В.Б. Павловc , К.В. Вавилин, В.П. Тараканов Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, физический факультет, кафедра физической электроники. <...> Работа посвящена систематическим исследованиям радиальной зависимости параметров плазмы индуктивного ВЧ-разряда низкого давления в широком диапазоне давлений от 0.8 мторр до 1 торр. <...> Экспериментальные результаты, полученные при рассмотренных давлениях, позволяют проанализировать закономерности изменения параметров плазмы, как при нелокальном режиме горения разряда, так и при переходе от нелокального к локальному режиму ввода ВЧ-мощности. <...> Ключевые слова: ВЧ-разряд, индуктивный ВЧ-разряд, энергетическое распределение электронов, концентрация электронов, эффективная температура электронов, PIC-метод. <...> Введение Индуктивный ВЧ-разряд низкого давления известен уже более ста лет. <...> Томсон высказал предположение [1], что индуктивный разряд вызывается и поддерживается вихревым электрическим полем, которое создается магнитным полем, в свою очередь индуцируемым током, текущим по антенне. <...> Систематические исследования индуктивного ВЧ-разряда, возбуждаемого при низких давлениях планарной антенной, были выполнены в работах [2–8]. <...> Было показано [5–8], что одним из наиболее интересных с физической точки зрения режимов существования индуктивного ВЧ-разряда является режим, при котором длина свободного пробега электронов λ, а тем более длина релаксации электронов по энергиям λε , превосходят как толщину скин-слоя δ, где локализуются ВЧ-поля, нагревающие плазму, так и геометрические размеры источника плазмы L. <...> В этом случае электроны нагреваются ВЧ-полями в пределах скин-слоя, а растрачивают энергию в столкновениях с тяжелыми частицами во всем объеме источника плазмы. <...> Цель <...>