Технологические основы повышения надежности и качества изделий ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПОВЫШЕНИЯ НАДЕЖНОСТИ И КАЧЕСТВА ИЗДЕЛИЙ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПОВЫШЕНИЯ НАДЕЖНОСТИ И КАЧЕСТВА ИЗДЕЛИЙ УДК 623.4 ОПТИЧЕСКИЕ ФИЛЬТРЫ НА ОСНОВЕ ОПАЛОВЫХ МАТРИЦ ИЗ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ НАНОСФЕР О. А. <...> Голованов, В. Я. Савицкий, О. В. Филиппов Введение В настоящее время за рубежом интенсивно ведется разработка тактического лазерного оружия (ТЛО) для вывода из строя оптических и оптико-электронных приборов различного функционального назначения, а также для поражения органов зрения операторов и наводчиков боевых машин. <...> Одно из направлений защиты от ТЛО – использование оптических фильтров частотно-заградительного типа, которые не пропускают (отражают) электромагнитную энергию в узкой полосе указанных частот. <...> Перспективным направлением решения этой задачи является использование в оптических фильтрах фотонных кристаллов на основе опаловой матрицы из наносфер двуокиси кремния [1]. <...> Технология изготовления фотонных кристаллов на основе опаловой матрицы из наносфер двуокиси кремния в настоящее время достаточно отработана [1]. <...> Полосы непропускания электромагнитной энергии фотонными кристаллами зависят от периода решетки опаловой матрицы и от размера диэлектрических наносфер, а глубина запрещенной зоны – от толщины фотонного кристалла и совершенства его структуры [2]. <...> Для того, чтобы изготовить оптический фильтр с требуемыми свойствами, необходимо провести математическое моделирование прохождения лазерного излучения через фотонный кристалл на электродинамическом уровне строгости. <...> Построение математической модели Рассмотрим дифракцию плоской однородной электромагнитной волны с амплитудой 1c и частотой f на фотонном кристалле в виде плоского диска радиуса D и толщиной d при угле падения излучения 90º (рис. <...> В результате дифракции электромагнитной волны на фотонном кристалле появляются отраженная волна <...>