Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 635051)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Вестник Воронежского государственного университета. Серия: Физика. Математика  / №1 2008

ВЛИЯНИЕ БУФЕРНОГО ПОРИСТОГО СЛОЯ GAAS И ЛЕГИРОВАНИЯ ДИСПРОЗИЕМ В ГЕТЕРОСТРУКТУРАХ GAINP:DY/POR-GAAS/GAAS(100) (90,00 руб.)

0   0
Первый авторСередин
АвторыДомашевская Э.П., Гордиенко Н.Н., Глотов А.В., Журбина И.А., Арсентьев И.Н., Шишков М.В.
Страниц5
ID528300
АннотацияВ образцах с пористым буферным слоем остаточные внутренние напряжения, вызванные рассогласованием параметров кристаллических решеток поверхностного тройного твердого раствора GaInP и подложки GaAs, перераспределяются в пористый слой, который в данном случае играет роль «губки» и способствует полному исчезновению внутренних напряжений
УДК537.311: 538.971
ВЛИЯНИЕ БУФЕРНОГО ПОРИСТОГО СЛОЯ GAAS И ЛЕГИРОВАНИЯ ДИСПРОЗИЕМ В ГЕТЕРОСТРУКТУРАХ GAINP:DY/POR-GAAS/GAAS(100) / П.В. Середин [и др.] // Вестник Воронежского государственного университета. Серия: Физика. Математика .— 2008 .— №1 .— С. 87-91 .— URL: https://rucont.ru/efd/528300 (дата обращения: 05.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

УДК 537.311: 538.971 ВЛИЯНИЕ БУФЕРНОГО ПОРИСТОГО СЛОЯ GaAs И ЛЕГИРОВАНИЯ ДИСПРОЗИЕМ В ГЕТЕРОСТРУКТУРАХ GaInP:Dy/por-GaAs/GaAs(100) П. <...> А. Ф. Иоффе РАН В образцах с пористым буферным слоем остаточные внутренние напряжения, вызванные рассогласованием параметров кристаллических решеток поверхностного тройного твердого раствора GaInP и подложки GaAs, перераспределяются в пористый слой, который в данном случае играет роль «губки» и способствует полному исчезновению внутренних напряжений. <...> Кроме того, так как редкоземельные элементы обладают сильными магнитными свойствами, введение их в полупроводники, а также полупроводниковые твердые растворы на основе A3B5 может внести новые степени свободы в материал за счет взаимодействия свободных носителей и магнитных ионов, что в свою очередь открывает новые возможности таких материалов в электронной промышленности [1]. <...> Использование пористых полупроводниковых прослоек в таких гетероструктурах в качестве переходных слоев согласующих параметры между эпитсаксиальным слоем и подложкой, может оказаться перспективным. <...> ПОДГОТОВКА ОБРАЗЦОВ И МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ В работе исследовались эпитаксиальные гетероструктуры, полученные методом МОС-гидридной эпитаксии. <...> Эпитаксиальные слои тройных твердых растворов GaInP толщиной ~0.2 µm, легированные диспрозием n ~ 1015 см–3 см–3 , были выращены либо непосредственно на монокристаллических подложках GaAs (100) n ~ 1017 , либо на буферным пористом слое GaAs толщиной ~10 µm, сформированном анодным травлением подложки GaAs (100). <...> © Середин П. В., Домашевская Э. П., Гордиенко Н. Н., Глотов А. В., Журбина И. А., Арсентьев И. Н., Шишков М. В., 2008 88 Согласование параметров эпитаксиального слоя и подложки контролировали с помощью дифрактометра ДРОН 4-07. <...> Анализ поверхности и сколов образцов был проведен с использованием растрового электронного микроскопа JEOL JSM-6380LV. <...> ИК-спектры отражения получали на Фурье ИК-спектрометре Vertex 70 Bruker. <...> Анализ дисперсии отражений спектров ИК от монокристаллической <...>