№ 6 Силовые поля для молекулярно-динамического моделирования процесса напыления пленок диоксида кремния Ф. <...> Проведено сравнение двух силовых полей, предназначенных для молекулярно-динамического моделирования процесса напыления тонких пленок диоксида кремния. <...> Проведен анализ структурных характеристик (плотность, радиальная функция распределения) кластера стеклообразного диоксида кремния, используемого в качестве подложки, и напыленной пленки. <...> Показано, что для моделирования процесса напыления наиболее подходит силовое поле DESIL, в котором взаимодействие Ван-дер-Ваальса описывается потенциалом Леннарда-Джонса. <...> Ключевые слова: суперкомпьютерное моделирование, молекулярная динамика, тонкие пленки, диоксид кремния, напыление, силовое поле. <...> Одним из наиболее распространенных материалов для слоев с низким показателем преломления является диоксид кремния. <...> Структурные и оптические свойства пленок существенным образом зависят от технологических параметров процесса напыления — энергии и углового распределения скоростей атомов, напыляемых на подложку, ее температуры, давления и состава газа в вакуумной камере и т. д. <...> В настоящее время одним из наиболее перспективных методов, позволяющих получить однородные и плотные пленки, является метод высокоэнергетического напыления (ion beam sputtering, IBS), в котором энергия атомов кремния, падающих на подложку и ранее напыленные слои пленки, достигает нескольких десятков электронвольт [2]. <...> Актуальной задачей с точки зрения совершенствования технологии высокоэнергетического напыления является исследование зависимости структурных и оптических свойств пленки от величин технологических параметров процесса напыления. <...> Экспериментальное исследование такой зависимости затруднено вследствие малой толщины и неупорядоченной структуры пленки, поэтому использование методов атомистического моделирования в той области представляется целесообразным <...>