Батгэрэл, Э. Г. Никонов, И. В. Пузынин Лаборатория информационных технологий Объединённый институт ядерных исследований ул. <...> 6, г.Дубна, Московская область, 141980, Россия В работе приводятся результаты исследований методами классической молекулярной динамики процессов взаимодействия нейтральных металлических нанокластеров при соударении с металлической поверхностью. <...> Исследована зависимость характерных размеров структуры образованного в результате соударения поверхностного слоя от размера, энергии соударения и частоты импульсного источника нанокластеров. <...> В результате, численно определена функциональная зависимость глубины проникновения атомов кластера в материал мишени и толщины осаждаемого слоя от количества атомов в налетающих кластерах и частоты импульсного источника. <...> Обнаружено также, что толщина осаждаемого слоя, в отличие от глубины проникновения, перестаёт зависеть от числа атомов в налетающих кластерах N, частоты импульсного источника ω и энергии налетающих кластеров E при увеличении N, ω и E. <...> При этом осаждаемый слой становится неоднородным по толщине и принимает характерную воронкообразную форму. <...> Показано, что существует зависимость характеристик различных энергетических режимов (soft landing, droplet spreading и implantation) от числа атомов в налетающих кластерах. <...> Одним из распространённых в настоящее время подходов к численному моделированию этих процессов являются различные методы молекулярной динамики [5]. <...> В работах [6–8] представлены результаты моделирования для металлов проВ связи с развитием нанотехнологий увеличился интерес к моделированию цессов модификации поверхности при облучении кластерами частиц с энергиями столкновения от (< 0.1 эВ/атом) до (> 3 эВ/атом). <...> В работе [9] приведены результаты численных исследований, в рамках молекулярно-динамического моделирования, столкновения металлических нанокластеров между собой и с металлической поверхностью в широком интервале энергий <...>