В работе моделируется взаимодействие осаждаемых атомов с пленкой диоксида кремния в случае использования высокоэнергетических процессов для напыления оптических нанопокрытий. <...> Используется метод молекулярной динамики с классическим силовым полем для описания взаимодействия между атомами. <...> Оценено характерное время быстрой релаксации кинетической энергии осаждаемого атома, характерная глубина его проникновения в пленку. <...> Показано, что существенное значение для формирования покрытий имеет угловое распределение скоростей напыляемых атомов! <...>