Технологии в электронной промышленности, № 4’2016 MIVA 2030X/2060X серии Mask Writer — единственные в мире установки, способные одновременно работать с двумя источниками излучения разной длины волны: 525 нм для фотоэмульсии и 388 нм для позитивного фоторезиста. <...> Измерение подтверждает точность прорисовки топологии установкой MIVA 2060X Mask Writer Тест 2. <...> Возможность работы с партией подложек С первой задачей установка справилась, и мы решили проверить, сможет ли она экспонировать не одну подложку, а целую партию. <...> Для этого было подготовлено пять поликоровых подложек размером 6048 мкм с метками совмещения в виде кругов диаметром 500 мкм. <...> В программное обеспечение установки были введены характеристики меток и примерные координаты их нахождения, после чего видеокамера обнаруживала их и точно позиционировала проектор относительно подложки. <...> Данная опция позволяет не только одновременно экспонировать несколько подложек, но и выполнять высокоточное совмещение слоев на одной подложке при изготовлении многослойных микросхем. <...> Результаты исследований позволяют говорить об установках MIVA 2030X/2060X серии Mask Writer как о мощнейшем инструменте для выпуска фотошаблонов с огромной производительностью сразу по двум технологиям и как об альтернативе контактной литографии для небольших партий. <...> Учитывая, что в рабочей зоне размером 500600 мм удается разместить по меньшей мере 70 поликоровых подложек размером 6048 мм, можно говорить и о средних партиях (при этом без изготовления фотошаблона для каждого изделия). <...> Список отечественных микросхем, поддерживающих технологию периферийного сканирования по стандарту IEEE 1149.1 На выставке «Новая Электроника – 2016» компания JTAG Technologies представила брошюру с информацией об отечественной компонентной базе, поддерживающей IEEE 1149.1. <...> Список, в котором присутствуют такие компании, как ВЗПП-С, «Миландр», МЦСТ, НТЦ «Модуль», НИИЭТ, «Элвис», составлен по данным от самих производителей ИМС. <...> В контексте импортозамещения <...>