Прикладная физика, 2015, № 4 УДК 541.64 Влияние частоты поля на особенности плазменной обработки полимеров В. В. Марусин, В. Г. Щукин Проведен сравнительный анализ особенностей травления поверхностных слоев полимерных материалов в условиях плазмы низкочастотных (звуковых) и высокочастотных разрядов. <...> Для различных конструкций плазмохимических реакторов в рамках феноменологического подхода проанализирована специфика процессов травления. <...> Показано, что наличие области отрицательного свечения в тлеющих разрядах звукового диапазона частоты (ТРЗЧ) объясняет сравнимые значения скорости травления в тлеющих разрядах радиодиапазона (ТРРЧ) и ТРЗЧ при близких значениях поглощаемой мощности при различающихся на порядок значениях токов. <...> Приводится ряд соображений, которые необходимо учитывать при выборе плазменного источника для конкретного процесса травления. <...> Cf Ключевые слова: низко- и высокочастотный объемные разряды, пониженное давление, влияние частоты на параметры разряда. <...> Введение Плазмохимическое травление полимерных материалов широко применяют для очистки их поверхности [1, 2], стравливания поверхностных слоев [3], развития микрорельефа [4], модификации поверхности [5—8]. <...> При этом обработку проводят в тлеющем разряде (ТР) пониженного (от 10 до 150 Па) давления в диапазоне звуковых (ТРЗЧ) или радио (ТРРЧ) частот [1, 3, 4, 9]. <...> Большинство работ [1, 3, 12], где анализируется связь между скоростью травления и управляемыми параметрами процесса, учитывают, в основном, плазмохимические процессы в положительном столбе (ПС) разряда как источнике генерации травящих реагентов. <...> Влияние приэлектродных слоев Марусин Владлен Васильевич, ведущий инженер. <...> E-mail: marusin@itam.nsc.ru ; schukin_vg@ngs.ru Статья поступила в редакцию 9 июля 2015 г. © Марусин В. В., Щукин В. Г., 2015 33 рассматривалось при ионной бомбардировке изделий, расположенных на электродах. <...> Очевидно, что различия в приэлектродной структуре ТРЗЧ и ТРРЧ ведут к существенному различию <...>