Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634558)
Контекстум
.
Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология  / №9 2011

Электрофизические параметры и эмиссионные спектры плазмы тлеющего разряда в хлористом водороде (90,00 руб.)

0   0
ИздательствоМ.: ПРОМЕДИА
Страниц5
ID267719
АннотацияПолучены данные по температуре газа и приведенной напряженности электрического поля. Показано, что интенсивность излучения CL[2], CL и H в первом приближении пропорциональны концентрациям этих частиц в плазме.
УДК544
ББК24.май
Электрофизические параметры и эмиссионные спектры плазмы тлеющего разряда в хлористом водороде // Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология .— 2011 .— №9 .— С. 48-52 .— URL: https://rucont.ru/efd/267719 (дата обращения: 18.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

Мессбауэровская спектроскопия и контроль качества лекарственных препаратов. <...> Babanin V.F., Zalutskiy A.A., Kalaeva S.Z., Makarov V.M., Mikhaleva N.V., Pukhov D.E., Omel’yanyuk G.G. <...> УДК 537.525 С.А. Пивоваренок, А.В. Дунаев, Д.Б. Мурин, А.М. Ефремов, В.И. Светцов ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ И ЭМИССИОННЫЕ СПЕКТРЫ ПЛАЗМЫ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА В ХЛОРИСТОМ ВОДОРОДЕ (Ивановский государственный химико-технологический университет) e-mail: efremov@isuct.ru Проведен анализ электрофизических параметров и спектра излучения плазмы HCl в условиях тлеющего разряда постоянного тока. <...> Получены данные по температуре газа и приведенной напряженности электрического поля. <...> Показано, что интенсивности излучения Cl2, Cl и H в первом приближении пропорциональны концентрациям этих частиц в плазме. <...> Ключевые слова: плазма, излучение, интенсивность, возбуждение, концентрация, хлористый водород ВВЕДЕНИЕ Низкотемпературная плазма тлеющего разряда в галогеноводородах, в первую очередь в хлористом водороде, в последние годы достаточно широко применяется в технологии микро- и наноэлектроники при проведении процессов «сухого» травления и очистки поверхности полупро48 водниковых пластин и функциональных слоев [1]. <...> Эффективная реализация и оптимизация процессов плазмохимического травления требует знания взаимосвязей между внешними (задаваемыми) параметрами плазмы, ее параметрами и составом, определяющими стационарные плотности потоков активных частиц на обрабатываемую поверхХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ 2011 том 54 вып. <...> Одним из основных методов получения такой информации является оптическая эмиссионная спектроскопия плазмы [1, 2]. <...> Целью данной работы являлось исследование электрофизических параметров и эмиссионных спектров плазмы тлеющего разряда в хлористом водороде и возможностей контроля относительных концентраций частиц по соответствующим интенсивностям излучения. <...> МЕТОДИЧЕСКАЯ ЧАСТЬ Для экспериментального исследования параметров плазмы тлеющего разряда постоянного <...>