Dg Сравнительные характеристики пучковой и индуктивно-связанной ВЧ-плазмы, генерируемой в диэлектрической полости в форвакуумном диапазоне давлений (обзор) Д. Б. Золотухин В обзоре приводится сравнительный анализ результатов экспериментов по исследованию параметров и характеристик плазмы, создаваемой различными способами в диэлектрическом сосуде: при инжекции непрерывного электронного пучка током 10–40 мА и энергией 2–8 кэВ в цилиндрическую кварцевую полость, а также безэлектродным индуктивным ВЧразрядом, генерируемым внешней квадрупольной антенной, причем в форвакуумном диапазоне давлений (1–15 Па) рабочих газов (Ar, N2). <...> Приводятся сравнения продольных и радиальных профилей концентрации, а также величин температуры электронов и потенциала, характерных для упомянутых видов плазмы. <...> Показано, что оба способа позволяют осуществить генерацию однородной плазмы в диэлектрической полости с концентрацией 109–1011 см-3 и температурой электронов 2–4 эВ. <...> Ключевые слова: пучковая плазма, индуктивно-связанная ВЧ-плазма, диэлектрическая полость, форвакуумный плазменный источник электронов, форвакуумная область давлений. <...> Введение В настоящее время растет интерес к генерации плазмы внутри диэлектрических (полимерных или стеклянных) трубок [1], контейнеров и сосудов [2]. <...> Плазма внутри таких объектов создается c целью улучшения параметров их поверхности, например, в интересах совместимости с биологическими жидкостями и тканями [1], для повышения барьерных свойств к различным газам [2] и снижения расслаиваемости, а также для стерилизации [3]. <...> Для генерации плазмы в диэлектрическом объеме обычно используется импульсный тлеющий [1], высокочастотный [2, 3] и микроволновый (2,45 ГГц) [2] разряды. <...> E-mail: ZolotukhinDen@gmail.com Статья поступила в редакцию 9 марта 2017 г. © Золотухин Д. Б., 2017 Одним из наиболее распространенных методов создания низкотемпературной плазмы внутри диэлектрических сосудов является индуктивный ВЧ-разряд <...>