Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 635051)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Теплофизика высоких температур (РАН)  / №2 2017

КИНЕТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ОКИСЛЕНИЯ AL В ГЕТЕРОГЕННОЙ АЛЮМО-ВОДЯНОЙ ПЛАЗМЕ. ОТРИЦАТЕЛЬНЫЕ ИОНЫ (200,00 руб.)

0   0
Первый авторКоршунов
АвторыЧиннов В.Ф., Кавыршин Д.И.
Страниц8
ID594495
АннотацияИсследованы механизмы образования и гибели отрицательных ионов алюмо-водяной гетерогенной плазмы, их роль в кинетике ее ионизации и рекомбинации и влияние на параметры плазмы. Отрицательные ионы, в отличие от положительных, практически не участвуют в гетерогенных процессах и для усиления своего влияния на параметры плазмы требуют, прежде всего, высоких электронных температур (~1.5 эВ и выше), а также низких концентраций ne и [Al], при которых они вносят большой вклад в диссоциацию Н2О за счет энергии электронов (2‒8 эВ на молекулу). Показано, что даже при наиболее благоприятных условиях низких концентраций Н и О в экспериментальном диапазоне температур Те = 0.6‒1 эВ отрицательные ионы практически не влияют на концентрацию Al, а в рабочей зоне реактора и на другие параметры, кроме концентрации микрочастиц. Выявлен источник рекомбинационного заселения возбужденных уровней Al, важный для спектральной диагностики атомарного излучения. Установлен главный отрицательный ион (ОНˉ). Сделан вывод о невозможности его использования в целях оптимизации работы алюмо-водяного плазмохимического реактора
УДК533.92
Коршунов, О.В. КИНЕТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ОКИСЛЕНИЯ AL В ГЕТЕРОГЕННОЙ АЛЮМО-ВОДЯНОЙ ПЛАЗМЕ. ОТРИЦАТЕЛЬНЫЕ ИОНЫ / О.В. Коршунов, В.Ф. Чиннов, Д.И. Кавыршин // Теплофизика высоких температур (РАН) .— 2017 .— №2 .— С. 25-32 .— URL: https://rucont.ru/efd/594495 (дата обращения: 05.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

189–196 УДК 533.92 КИНЕТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ОКИСЛЕНИЯ Al В ГЕТЕРОГЕННОЙ АЛЮМО-ВОДЯНОЙ ПЛАЗМЕ. <...> ОТРИЦАТЕЛЬНЫЕ ИОНЫ © 2017 г. О. В. Коршунов*, В. Ф. Чиннов**, Д. И. Кавыршин Объединенный институт высоких температур РАН, Москва, Россия *E-mail: O.v.k@inbox.ru, **E-mail: v_chinnov@oivtran.ru Поступила в редакцию 03.03.2015 г. Исследованы механизмы образования и гибели отрицательных ионов алюмо-водяной гетерогенной плазмы, их роль в кинетике ее ионизации и рекомбинации и влияние на параметры плазмы. <...> Отрицательные ионы, в отличие от положительных, практически не участвуют в гетерогенных процессах и для усиления своего влияния на параметры плазмы требуют, прежде всего, высоких электронных температур (~1.5 эВ и выше), а также низких концентраций ne и [Al], при которых они вносят большой вклад в диссоциацию Н2О за счет энергии электронов (2‒8 эВ на молекулу). <...> Показано, что даже при наиболее благоприятных условиях низких концентраций Н и О в экспериментальном диапазоне температур Те = 0.6‒1 эВ отрицательные ионы практически не влияют на концентрацию Al, а в рабочей зоне реактора и на другие параметры, кроме концентрации микрочастиц. <...> Выявлен источник рекомбинационного заселения возбужденных уровней Al, важный для спектральной диагностики атомарного излучения. <...> DOI: 10.7868/S0040364417020065 ВВЕДЕНИЕ Данное исследование дополняет экспериментально-теоретические работы [1‒4] по построению кинетической модели алюмо-водяной плазмы, в которой процессы, идущие на поверхности алюминиевых микрочастиц, играют ключевую роль. <...> Плазма создавалась в потоке аргона и паров воды с микрочастицами алюминия импульснопериодическим разрядом. <...> На основе спектральной, визуальной, калорической и электрической диагностики получены следующие параметры (см. <...> и цитируемую там литературу): ‒ концентрация электронов ne, атомов алюминия и паров воды на оси потока: 5 Ч 1013 см–3, 4 Ч Ч1013 см–3 и 2 Ч 1017 см–3 соответственно; ‒ температура атомов и молекул Та ≈ 3000 К, электронов Те = 0.6‒1 эВ; ‒ концентрации ионов <...>