3 Кристаллические дефекты в фотопреобразователях, полученных методом термомиграции © В.Н. Лозовский 1,А.А.Ломов 2,Л.С. Лунин 1,Б.М. Середин 1,Ю.М. Чесноков 3 1Южно-Российский государственный политехнический университет (НПИ) им. <...> М.И. Платова, 346428 Новочеркасск, Россия 2 Физико-технологический институт Российской академии наук, 117218 Москва, Россия 3 Национальный исследовательский центр ”Курчатовский институт“, 123182 Москва, Россия E-mail: seredinboris@gmail.com Получена 12 апреля 2016 г. Принята к печати 20 апреля 2016 г. Приводятся результаты исследований кристаллической структуры областей кремния, перекристаллизованных в процессе термомиграции жидкой кремний-алюминиевой зоной. <...> Подобные области, легированные акцепторной примесью, необходимы для получения высоковольтных фотопреобразователей. <...> С помощью рентгеновских дифракционных методов двухкристальных кривых отражения и топографии, а также просвечивающей электронной микроскопии высокого разрешения установлено, что при проведении термомиграции жидких зон в виде серии тонких полос или прямоугольных сеток формируются монокристаллические области. <...> Выявлены дислокационные полупетли, которые лежат в поверхностных слоях лицевой и тыльной сторон подложки. <...> В этом случае фотопреобразователь изготавливается в виде кремниевой матрицы из микроминиатюрных последовательно соединенных фотоэлементов с p−n-переходами на гранях, перпендикулярных рабочей поверхности кристалла [2]. <...> Основная трудность в получения такой матрицы заключается в организации локального легирования протяженных чередующихся каналов, пронизывающих всю толщу кремниевой пластины (рис. <...> Использование диффузионного легирования для этих целей нецелесообразно, как из-за размытия границы между основным кристаллом и обогащенной примесью областью, так и из-за большой длительности процесса создания каналов толщиной в сотни микрон. <...> Оба этиx фактора не позволяют достичь требуемой миниатюризации элементов <...>