Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634620)
Контекстум
.
Физика и техника полупроводников  / №1 2017

ФОРМИРОВАНИЕ И СВОЙСТВА ЗАХОРОНЕННОГО ИЗОЛИРУЮЩЕГО СЛОЯ ДВУОКИСИ КРЕМНИЯ В ДВУХСЛОЙНЫХ СТРУКТУРАХ ”ПОРИСТЫЙ КРЕМНИЙ-НА-ИЗОЛЯТОРЕ“ (200,00 руб.)

0   0
Первый авторБолотов
АвторыКнязев Е.В., Пономарева И.В., Кан В.Е., Давлеткильдеев Н.А., Ивлев К.Е., Росликов В.Е.
Страниц5
ID591914
АннотацияИзучен процесс окисления мезопористого кремния в двухслойной структуре ”макропористый кремний−мезопористый кремний“. Методами электронной микроскопии, эллипсометрии, электрофизическими измерениями исследована морфология и диэлектрические свойства получаемого слоя захороненного диэлектрика. Определено наличие специфического вида дефектов ”шипов“, возникающих при окислении стенок макропор в макропористом кремнии, границ пересечения фронтов окисления мезопористого кремния. Установлено, что при исходной пористости мезопористого кремния 60% и трехстадийном термическом окислении формируются захороненные слои двуокиси кремния с напряженностью электрического поля пробоя Ebr ∼ 104−105 В/cм. Показана перспективность применения многослойных структур ”пористый кремний-на-изоляторе“ в интегрированных химических микро- и наносенсорах
ФОРМИРОВАНИЕ И СВОЙСТВА ЗАХОРОНЕННОГО ИЗОЛИРУЮЩЕГО СЛОЯ ДВУОКИСИ КРЕМНИЯ В ДВУХСЛОЙНЫХ СТРУКТУРАХ ”ПОРИСТЫЙ КРЕМНИЙ-НА-ИЗОЛЯТОРЕ“ / В.В. Болотов [и др.] // Физика и техника полупроводников .— 2017 .— №1 .— С. 55-59 .— URL: https://rucont.ru/efd/591914 (дата обращения: 19.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

1 Формирование и свойства захороненного изолирующего слоя двуокиси кремния в двухслойных структурах ”пористый кремний-на-изоляторе“ © В.В. Болотов, Е.В. Князев, И.В. Пономарева, В.Е. Кан ¶,Н.А.Давлеткильдеев, К.Е. Ивлев, В.Е. Росликов Омский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук, 644024 Омск, Россия ¶ E-mail: kan@obisp.oscsbras.ru Получена 24 марта 2016 г. Принята к печати 4 апреля 2016 г. кремниймезопористый кремний“. <...> Методами электронной микроскопии, эллипсометрии, электрофизическими измерениями исследована морфология и диэлектрические свойства получаемого слоя захороненного Изучен процесс окисления мезопористого кремния в двухслойной структуремакропористый диэлектрика. <...> Определено наличие специфического вида дефектов ”шипов“, возникающих при окислении стенок макропор в макропористом кремнии, границ пересечения фронтов окисления мезопористого кремния. <...> Установлено, что при исходной пористости мезопористого кремния 60% и трехстадийном термическом окислении формируются захороненные слои двуокиси кремния с напряженностью электрического поля пробоя Ebr ∼ 104−105 В/cм. <...> Показана перспективность применения многослойных структур ”пористый кремний-на-изоляторе“ в интегрированных химических микро- и наносенсорах. <...> Введение Структуры на основе пористого кремния легко интегрируются с электронным обрамлением в кремниевом технологическом цикле и благодаря развитой поверхности могут служить основой для создания композитных структур для химических микро- и наносенсоров [1–7]. <...> Для использования преимуществ развитой поверхности макропористого слоя в композитных структурах необходима электрическая изоляция этого слоя от проводящей подложки. <...> Вэтом случае при нанесении чувствительной среды на развитую поверхность макропористого кремния можно получить многослойную интегрированную сенсорную структуру с большой эффективной площадью и, как следствие, с высокой чувствительностью <...>