1 11,13 Кинетика электронно-лучевой кристаллизации аморфных пленок ZrO2, полученных ионно-плазменным и лазерным напылением © А. <...> Проведено сопоставление структуры и кинетики электронно-лучевой кристаллизации аморфных пленок ZrO2, полученных с помощью ионно-плазменного и лазерного напыления. <...> Исследования выполнены методами электронографии и просвечивающей электронной микроскопии со съемками видео-фильмов in situ. <...> Воздействие на аморфную пленку электронного луча в вакууме сопровождается образованием микрокристаллов диоксида циркония с решеткой ГЦК. <...> При лазерном испарении плотность центров кристаллизации β ∼ 109sm−2, а характерная единица длины D0 ∼ 0.48 µm. <...> Анализ кинетических кривых кристаллизации аморфных пленок проведен на основе β-варианта модели Колмогорова. <...> Если таковым является воздействие пучка электронов, то речь идет об электронно-лучевой кристаллизации, которую можно осуществить в колонне просвечивающего электронного микроскопа, используя методику in situ [2,3]. <...> Электронно-лучевая кристаллизация аморфного ZrО2, полученного импульсным лазерным осаждением (ИЛО), частично исследована в [4]. <...> Показано, что воздействие электронного луча на аморфную пленку ZrО2 инициирует ее кристаллизацию с образованием микрокристаллов, имеющих ГЦК-кристаллическую решетку. <...> Средний диаметр микрокристаллов D монотонно увеличивается с увеличением степени кристалличности и достигает ∼ 0.53µm к моменту полной кристаллизации пленки. <...> Наряду с методом ИЛО для получения аморфных и нанокристаллических пленок и покрытий широко применяется метод ионно-плазменного осаждения (ИПО). <...> Поэтому цель настоящей работы состоит в получении аморфных пленок ZrO2 методами ИЛО и ИПО, а также в исследовании их структуры и сопоставлении кинетики электронно-лучевой кристаллизации. <...> Методика эксперимента Аморфные пленки диоксида циркония были получены как ионно-плазменным методом, так и методом лазерной абляции мишеней Zr. <...> Продукты распыления <...>