УДК 681.513, 621.382 Н.Н. Балан, канд. техн. наук, В.А. Васин, канд. техн. наук, Е.Н. Ивашов, д-р. техн. наук, М.Ю. Корпачев, С.В. Степанчиков, канд. техн. наук (Московский институт электроники и математики Национального исследовательского университета «Высшая школа экономики»); e-mail: mkorpachev@gmail.com ХАРАКТЕРИСТИКИ КАЧЕСТВА ФУНКЦИОНИРОВАНИЯ НАНОЛИТОГРАФИЧЕСКИХ СИСТЕМ * В АВТОМАТИЗИРОВАННОМ ПРОЕКТИРОВАНИИ Рассмотрены характеристики качества работы нанолитографического оборудования, функционирующего в области экстремального ультрафиолетового и рентгеновского излучения, особенности его оптических систем и энергетические потери в них. <...> Исследованы ключевые аспекты автоматизированного проектирования рассматриваемого оборудования. <...> Представлено устройство для выполнения наноопераций с использованием эффекта фокусировки рентгеновского излучения нанотрубками, заключенными в свинцовой матрице, и расположенными в них фуллеренами. <...> Ключевые слова: экстремальная ультрафиолетовая литография; оптическая литографическая система; энергетические потери в нанолитографе; устройство для выполнения наноопераций; фуллерены. <...> Введение В последнее десятилетие в области экстремального ультрафиолета (ЭУФ) и мягкого рентгена достигнут заметный прогресс при создании отражательных оптических элементов и высокоэффективных источников излучения – главным образом в процессе разработки перспективных образцов вооружения на новых физических принципах (например, «рентгеновского лазера» [1]). <...> Одним из центральных моментов здесь можно считать создание зеркал, обладающих весьма высоким коэффициентом отражения в ЭУФ и мягкой рентгеновской части электромагнитного излучения. <...> Для этого используется многослойное брэгговское покрытие на атомарно-гладкой поверхности массивной подложки с заданной кривизной. <...> 8 Источником ЭУФ обычно является лазерная плазма, генерируемая импульсным излучением мощного частотного лазера, сфокусированным <...>