УДК 537.525 Александр Михайлович Ефремов ( А.М. Ефремов, С.С. Шабадаров ), Сергей Станиславович Шабадаров Кафедра Технология приборов и материалов электронной техники, НИИ термодинамики и кинетики химических процессов, Ивановский государственный химико-технологический университет, просп. <...> Шереметевский, 7, Иваново, Российская Федерация, 153000 E-mail: efremov@isuct.ru ( ), serguny93@mail.ru КИНЕТИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ПРОЦЕССОВ ПОД ДЕЙСТВИЕМ ЭЛЕКТРОННОГО УДАРА В BCl3 Сформирован набор процессов под действием электронного удара и соответствующих им сечений для молекулы BCl3. <...> Получены модельные данные по энергетическим распределениям электронов и константам скоростей процессов при электронном ударе. <...> Ключевые слова: BCl3, сечение, функция распределения электронов по энергиям (ФРЭЭ), константа скорости, ионизация, диссоциация A.M. <...> Shabadarov Alexander M. Efremov ( ), Sergey S. Shabadarov Dept. of Electronic Devices and Material Technology, Ivanovo State University of Chemistry and Technology, Sheremetievskiy ave., 7, Ivanovo, Russia, 153000 E-mail: efremov@isuct.ru ( ), serguny93@mail.ru KINETIC CHARACTERISTIC OF ELECTRON IMPACT PROCESSES FOR BCl3 The set of electron impact processes and corresponding cross-section for BCl3 molecule was created. <...> The model-predicted data on electron energy distributions and rate coefficients for electron impact processes were obtained. <...> Key words: BCl3, cross-section, rate coefficient, ionization, dissociation ВВЕДЕНИЕ Низкотемпературная газоразрядная плазма хлорсодержащих газов (Сl2, BCl3, фреоны CFxCly) широко применяется в технологии микро- и наноэлектроники при размерном структурировании поверхностей полупроводниковых пластин и функциональных слоев различной природы [1]. <...> Основными достоинствами плазмы BCl3 являются: 1) Отсутствие полимеризационных явлений; 2) Низкие, по сравнению с молекулярным хлором, степени диссоциации исходных молекул, что дает преимущество в анизотропии травления [1, 2]; 3) Высокая скорость травления оксидных пленок за счет химических реакций радикалов BCl2 и BCl [3]. <...> В силу последней особенности, BCl3-содержащая плазма является незаменимым инструментом структурирования поверхности материалов, покрытых естественными окислами, например Al и GaAs [3, 4]. <...> Оптимизация <...>