№ 6 ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ И ЭЛЕМЕНТЫ УДК 537.9:539.23 КИНЕТИЧЕСКИЕ ОСОБЕННОСТИ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК ТВЕРДОГО РАСТВОРА (SiC)1-x (AℓN)x ИОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ 2013 г. Н.И. Каргин, Г.К. Сафаралиев, Н.А. Харламов, Г.Д. Кузнецов, С.М. Рындя Каргин Николай Иванович – д-р техн. наук, профессор, Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», г. Москва, начальник УРПИ (Управление развития перспективных исследований). <...> РАН, профессор, Дагестанский государственный университет, г. Махачкала E-mail: Safaraliev@duma.gov.ru Харламов Николай Александрович – аспирант, Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС», г. Москва. <...> E-mail: elementarno@bk.ru Кузнецов Геннадий Дмитриевич – д-р техн. наук, профессор, кафедра ТМЭ, Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС», г. Москва. <...> E-mail: prof-kuznetsov@ yandex.ru Рындя Сергей Михайлович – ФГУП «Ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский физикохимический институт им. <...> E-mail: ryndya_sm @mail.ru Kargin Nikolai Ivanovich – Doctor of Technical Sciences, professor, NRNU MEPHI, chief of URPI (Office of Advanced Studies), Moscow. <...> E-mail: prof-kuznetsov@ yandex.ru Ryndya Sergey Mikhailovich – Karpov Institute of Physical Chemistry, Moscow, E-mail: ryndya_sm @mail.ru Исследовалась кинетика распыления многокомпонентной прессованной мишени для получения твердых растворов (SiC)1-x(AlN)x методом магнетронного распыления. <...> Рассмотрены классическая (молекулярная) и кластерная модели распыления мишени. <...> Показаны зависимости скорости и коэффициента распыления от параметров системы (плотности ионного потока, энергии ионов), а также от размеров кластера. <...> Достигнута высокая корреляция расчетных и экспериментальных результатов. <...> Ключевые слова: твердые растворы; карбид кремния; нитрид алюминия; магнетронное распыление; кластерная модель; кинетика распыления. <...> Authors studied sputtering kinetics of multicomponent ПРЕССОВАННОЙ target for (SiC)1-x(AlN)x solid solutions fabrication by the means of magnetron sputtering. <...> Graphs of sputtering rate and sputtering coefficient versus system parameters (ion flow density, ion energy) and size of clusters are presented <...>