УДК 544.653.2 ОПРеДеЛеНие кОРРОЗиОННОЙ УСТОЙЧиВОСТи МеДи В щеЛОЧНОЙ СРеДе ПО ДАННЫМ ЭЛекТРО- и ФОТОЭЛекТРОХиМиЧеСкиХ иССЛеДОВАНиЙ Д. <...> Абакумова Воронежский государственный университет поступила в редакцию 09.09.2013 г. Аннотация. показана возможность обнаружения оксидной пленки на поверхности меди in situ методом измерения фотопотенциала. рассчитана эффективная константа коррозионного окисления меди в деаэрированной щелочной среде в различных условиях предварительной поляризации по данным кулонометрии и хронопотенциометрии с синхронной регистрацией фотопотенциала. <...> Установлено, что переход от поли- к монокристаллической поверхности существенно замедляет коррозионное окисление меди следами растворенного кислорода. ключевые слова: поликристаллическая медь, монокристаллы меди, оксидообразование, коррозия, фотопотенциал. <...> В воде и водных растворах медь подвержена электрохимической коррозии с кислородной деполяризацией [1-3]. не исключено и сугубо химическое взаимодействие меди с растворенным молекулярным кислородом: 2 Cu + ½O2 тиллированной воде в аналогичных условиях толщина пленки увеличивается до 50 нм. продуктами анодного окисления и коррозии болическому закону при низких концентрациях кислорода (< 0.4 мг/л), и по логарифмическому – при более высоких (> 4 мг/л) [5]. отмечено [6], что если в сухом воздухе при 40 °С за 66 часов образуется пленка Cu2 рост пленки Cu2 O толщиной 15 нм, то в дисмеди в щелочной среде являются ее оксиды и гидроксиды, проявляющие полупроводниковые свойства. именно поэтому достаточно простым экспрессным методом обнаружения оксидной фазы на поверхности металлического электрода может служить измерение фотопотенциала Eph фототока iph или [7-10]. <...> Цель данной работы – определение коррозиотклика при освещении электрода свидетельствует о наличии на его поверхности полупроводниковой пленки. измерение фотопотенциала было использовано для обнаружения оксида меди при получении оксидных <...>