Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634932)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Естественные и технические науки  / №2 2013

МОДЕЛИРОВАНИЕ И РАСЧЕТ БАРЬЕРА ШОТТКИ И ВОЛЬТ-АМПЕРНЫХ ХАРАКТЕРИСТИК ВЫСОКОВОЛЬТНЫХ N-M/P-SIC:ALN-ДИОДОВ (100,00 руб.)

0   0
Первый авторАлтухов
АвторыБилалов Б.А., Касьяненко И.С., Санкин А.В.
Страниц3
ID497900
АннотацияВ работе развита простая, но нелинейная по концентрации дефектов модель контакта металлполупроводник. Показано, что учет нелинейной зависимости уровня Ферми ЕF от концентрации дефектов ведет к повышению барьера Шоттки на 15-25%. Для выращивания высоковольтных гетероструктур на основе карбида кремния предлагается способ индукционного нагрева с алгоритмом системы управления технологическими режимами
МОДЕЛИРОВАНИЕ И РАСЧЕТ БАРЬЕРА ШОТТКИ И ВОЛЬТ-АМПЕРНЫХ ХАРАКТЕРИСТИК ВЫСОКОВОЛЬТНЫХ N-M/P-SIC:ALN-ДИОДОВ / В.И. Алтухов [и др.] // Естественные и технические науки .— 2013 .— №2 .— С. 42-44 .— URL: https://rucont.ru/efd/497900 (дата обращения: 29.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

Естественные и технические науки, № 2, 2013 Физика Физика полупроводников Алтухов В.И., доктор физико-математических наук, профессор СевероКавказского федерального университета Билалов Б.А., доктор физико-математических наук, профессор Дагестанского государственного технического университета Касьяненко И.С., аспирант Санкин А.В., кандидат филологических наук, доцент (Северо-Кавказский федеральный университет) МОДЕЛИРОВАНИЕ И РАСЧЕТ БАРЬЕРА ШОТТКИ И ВОЛЬТ-АМПЕРНЫХ ХАРАКТЕРИСТИК ВЫСОКОВОЛЬТНЫХ N-M/P-SIC:ALN-ДИОДОВ В работе развита простая, но нелинейная по концентрации дефектов модель контакта металлполупроводник. <...> Показано, что учет нелинейной зависимости уровня Ферми ЕF от концентрации дефектов ведет к повышению барьера Шоттки на 15-25%. <...> Для выращивания высоковольтных гетероструктур на основе карбида кремния предлагается способ индукционного нагрева с алгоритмом системы управления технологическими режимами. <...> Ключевые слова: барьер Шоттки, вольт-амперные характеристики, высота барьера Шоттки, контакт металл-полупроводник. <...> MODELING OF A BARRIER OF SCHOTTKY AND VOLT-AMPERE CHARACTERISTICS OF HIGH-VOLTAGE N-M/P-SIC:ALN-DIODES In work the contact model metal semiconductor is developed simple, but nonlinear on concentration of defects. <...> It is shown that the accounting of nonlinear dependence of level of Fermi of EF from concentration of defects conducts to increase of a barrier of Schottky for 15-25%. <...> Keywords: Schottky's barrier, volt-ampere characteristics, height of a barrier of Schottky, contact metal semiconductor. <...> Высота потенциального барьера Шоттки ΦB на контакте металл-полупроводник является важнейшим параметром диодов Шоттки, полевых транзисторов и других элементов (приборов) силовой электроники с поверхностно-барьерными структурами на основе карбида кремния и его твердых растворов [1, 2]. <...> В том числе это структуры металл (М: Ni, Al, Mo, Au) – твердый раствор карбида кремния (SiC:AlN), в частности n-Al/p−(SiC)1−xAlNx. <...> Расчет высоты барьера ΦB для Al/n−(SiC)1−xAlNx по обобщенной теории Бардина и Шоттки-Мотта [3] не дал надежного согласия с экспериментами в области малых <...>