Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 635165)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Монокль (Эксперт)  / №36 2016

Для чего нужен фотолитограф (22,00 руб.)

0   0
Страниц1
ID468769
АннотацияЛюбое микроэлектронное устройство — микросхема, процессор, контроллер — грубо говоря, представляет собой многие миллионы транзисторов, резисторов, конденсаторов, изготовленных на кремниевой пластине и соединенных в определенную заранее разработанную электронную схему. Чтобы перенести эту схему на кремниевую пластину, используется метод фотолитографии. Его этапы таковы: схема со всеми ее элементами и связями рисуется на специальной пластине-маске, и этот рисунок затем переносится на кремниевую пластину так же, как печатается фотография с фотопленки. Этот процесс называется фотолитографией, а устройства, которые этот процесс осуществляют, — фотолитографические машины. Для простоты мы не описываем последующие технологические операции.
Для чего нужен фотолитограф // Монокль (Эксперт) .— 2016 .— №36 .— С. 39-39 .— URL: https://rucont.ru/efd/468769 (дата обращения: 08.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

МИКРОЭЛЕКТРОНИК А Ф отолитографическая машина — ключевое устройство в производстве микроэлектроники (см. <...> Сложность и цена такого оборудования непрерывно возрастают. <...> В мире существуют всего две-три компании, способные создавать такие машины для производства самых современных процессоров. <...> Они тратят на разработку этих машин десятки миллиардов долларов. <...> И фактически контролируют производство процессоров во всем мире. <...> Однако в России нашлись смельчаки, бросившие вызов гигантам мирового электронного машиностроения. <...> В июле мы опубликовали статью «Возродить электронное машиностроение» (см. <...> «Эксперт» № 26 за 2016 год), в которой рассказали о работе российских инженеров, создающих фотолитограф на новых принципах. <...> Сегодня мы беседуем с руководителем этой разработки профессором, доктором физико-математических наук Вадимом Раховским. <...> — Разработкой фотолитографических машин в мире занимаются крупнейшие компании, которые тратят на это многие миллиарды долларов. <...> Как вы решились составить им конкуренцию и почему вообще пришли к фотолитографии? <...> — В 1992 году, когда российская наука терпела крушение, а способные молодые специалисты стали предпочитать работе над диссертациями работу челноков и ларечников, я и мои сотрудники из ВНИИМС (Всесоюзный научно-исследовательский институт метрологической службы. <...> Но в это время нам иногда перепадали заказы от еле живых организаций — останков советской электроники. <...> Приходившие к нам разработчики и технологи неизменно жаловались, что их замучили дефекты на фотошаблонах — проекционных масках, возникавшие в процессе их изготовления и эксплуатации. <...> При этом по мере перехода ко все меньшим технологическим нормам требования к размерам и числу допустимых дефектов маски становились все строже и строже. <...> Например, для технологического уровня 90 нанометров отношение общей площади дефектов на поверхности маски к площади ее поверхности составляло 10–11 . <...> Мы стали придумывать <...>