Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 635051)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Прикладная физика  / №6 2013

Матричные фотодиоды коротковолнового ИК-диапазона на основе MOC-эпитаксиальных слоев КРТ (10,00 руб.)

0   0
Первый авторФилачев
АвторыНиконов А.В., Болтарь К.О., Моисеев А.Н., Чилясов А.В., Степанов Б.С.
Страниц5
ID432228
АннотацияИсследованы температурные зависимости фотоэлектрических параметров матриц фотодиодов инфракрасного диапазона 1–3 мкм на основе эпитаксиальной структуры КРТ состава x = 0,414, выращенной методом осаждения из металлоорганических соединений и ртути (MOC-эпитаксия). Показано, что высокие характеристики чувствительности фотодиодов КРТ при температурах охлаждения Т = 160–170 К позволяют применять фотоприемники на основе эпитаксиальных слоев КРТ, выращенных МОС-эпитаксией, в перспективной оптико-электронной аппаратуре.
УДК621.383.4/5:621.315.59
Матричные фотодиоды коротковолнового ИК-диапазона на основе MOC-эпитаксиальных слоев КРТ / А.М. Филачев [и др.] // Прикладная физика .— 2013 .— №6 .— С. 34-38 .— URL: https://rucont.ru/efd/432228 (дата обращения: 04.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

Прикладная физика, 2013, № 6 УДК 621.383.4/5:621.315.59 Матричные фотодиоды коротковолнового ИК-диапазона на основе MOC-эпитаксиальных слоев КРТ А.М. <...> Филачев, А.В.Никонов, К.О. Болтарь, А.Н. Моисеев, А.В. Чилясов, Б.С. Степанов Исследованы температурные зависимости фотоэлектрических параметров матриц фотодиодов инфракрасного диапазона 1–3 мкм на основе эпитаксиальной структуры КРТ состава x = 0,414, выращенной методом осаждения из металлоорганических соединений и ртути (MOC-эпитаксия). <...> Показано, что высокие характеристики чувствительности фотодиодов КРТ при температурах охлаждения Т = 160–170 К позволяют применять фотоприемники на основе эпитаксиальных слоев КРТ, выращенных МОС-эпитаксией, в перспективной оптико-электронной аппаратуре. <...> Ключевые слова: сканирующее фотоприемное устройство, кадмий ртуть теллур, КРТ, MOCVD-эпитаксиальные слои, инфракрасный фотоприемник, спектральная характеристика чувствительности, длина диффузии, ВЗН. <...> Введение Исследование температурных зависимостей фотоэлектрических параметров фотодиодов инфракрасного диапазона 1–3 мкм на основе эпитаксиальных гетероструктур КРТ, выращенных методом MOCVD является важной задачей для изготовления матричных фотодиодов коротковолнового ИК-диапазона. <...> Узкозонный полупроводниковый материал КРТ — твердый раствор теллурида кадмия и теллурида ртути — обладает высокими фотоэлектрическими характеристиками во всем диапазоне инфракрасного спектра. <...> Для получения эпитаксиальных слоев КРТ применяются различные методы [1]: молекулярно-лучевая эпитаксия (МЛЭ), Филачев Анатолий Михайлович, ген. директор 1 сор 2 . <...> Болтарь Константин Олегович, начальник НТК1 сор 2 Никонов Антон Викторович, инженер 1 . , аспирант 2 , профес. <...> Чилясов Алексей Викторович, старший научный сотрудник 3 Моисеев Александр Николаевич, заместитель директора 3 . <...> E-mail: moiseev@ihps.nnov.ru Статья поступила в редакцию 20 сентября 2013 г. © Филачев А.М., Никонов А.В., Болтарь К.О., Моисеев А.Н., Чилясов А.В., Степанов <...>

Облако ключевых слов *


* - вычисляется автоматически
Антиплагиат система на базе ИИ