Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634932)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Прикладная физика  / №6 2014

Влияние толщины фоточувствительных слоев на свойства МФПУ на основе антимонида индия (10,00 руб.)

0   0
Первый авторЛопухин
Страниц4
ID432137
АннотацияИсследовано влияние толщины фоточувствительного слоя в МФПУ на основе антимонида индия на одноточечную дефектность и чувствительность до и после утоньшения. На большом объеме матричных фотоприемников (МФП) установлено отсутствие увеличения одноточечной дефектности после утоньшения. Показана возможность изготовления МФП в области диапазона толщин 8÷12 мкм в случае улучшения контроля толщины без уменьшения процента выхода годных. В этом случае должна отсутствовать корреляция между чувствительностями до и после утоньшения, то есть исключено влияние величины объемной диффузионной длины неосновных носителей заряда на квантовый выход МФП после утоньшения, а также должны быть меньше величина разброса чувствительности после утоньшения и меньше взаимосвязь.
УДК621.383:621.315.5
Лопухин, А.А. Влияние толщины фоточувствительных слоев на свойства МФПУ на основе антимонида индия / А.А. Лопухин // Прикладная физика .— 2014 .— №6 .— С. 66-69 .— URL: https://rucont.ru/efd/432137 (дата обращения: 29.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

66 УДК 621.383:621.315.5 Влияние толщины фоточувствительных слоев на свойства МФПУ на основе антимонида индия А. А. Лопухин Исследовано влияние толщины фоточувствительного слоя в МФПУ на основе антимонида индия на одноточечную дефектность и чувствительность до и после утоньшения. <...> На большом объеме матричных фотоприемников (МФП) установлено отсутствие увеличения одноточечной дефектности после утоньшения. <...> Показана возможность изготовления МФП в области диапазона толщин 8ч12 мкм в случае улучшения контроля толщины без уменьшения процента выхода годных. <...> В этом случае должна отсутствовать корреляция между чувствительностями до и после утоньшения, то есть исключено влияние величины объемной диффузионной длины неосновных носителей заряда на квантовый выход МФП после утоньшения, а также должны быть меньше величина разброса чувствительности после утоньшения и меньше взаимосвязь. <...> Введение Серийная технология изготовления тонких фоточувствительных (ФЧ) слоев в матричных фотоприемниках (МФП) формата 320Ч256 элементов на основе антимонида индия, полученных методами ХМП (химико-механической полировки) и ХДП (химико-динамической полировки) [1, 3], требует непрерывного совершенствования в связи с уменьшением шага крупноформатных МФП до 15 мкм и менее, а также в связи с задачей переноса этой технологии для утоньшения МФП на основе арсенида галлия, используемых, например, в QWIP-фотоприемниках и в КРТ на подложках из арсенида галлия. <...> Целью данной работы являлось исследование влияния толщины фоточувствительных слоев на свойства матричных фотоприемных устройств (МФПУ) на основе антимонида индия. <...> Постановка работы Исследованы МФП формата 320Ч256 с шагом элементов 30 мкм, которые утоньшались методами ХМП и ХДП после операции гибридизации [1—10]. <...> Основным методом анализа операции утоньшения стало сравнение характеристик МФП Лопухин Алексей Алексеевич, начальник участка измерений. <...> E-mail: orion@orion-ir.ru Статья поступила <...>