Прикладная физика, 2014, № 2 37 Фотоэлектроника УДК 621.3.049.77 Методы редактирования топологии БИС считывания В.М. Акимов, Л.А. Васильева, С.С. Демидов, Е.А. Климанов При разработке и изготовлении новой БИС иногда возникает необходимость редактирования схемы или топологии кристалла с целью улучшения его параметров. <...> Рассмотрены методы коррекции топологии кристаллов, используемые для устранения ошибок при разработке и проектировании БИС. <...> Введение Полный цикл создания БИС включает в себя этапы проектирования схемотехники и топологии кристалла, формирования маршрута изготовления, разработки комплекта фотошаблонов, проведения технологических операций по изготовлению БИС, контроль параметров и анализ результатов измерений. <...> Одной из основных задач, возникающих при разработке новой БИС, является проектирование схемотехники и топологии кристалла. <...> Крупные компании используют полноценные пакеты программ для автоматического проектирования топологии БИС, гарантирующие почти 100%-безошибочность выполнения проекта при неизменности технологии изготовления БИС. <...> Климанов Евгений Алексеевич, главный научный сотрудник1 , профессор2 1ОАО “НПО “Орион”. <...> Цель данной работы состоит в сокращении времени разработки топологии кристаллов БИС путем использования электрического макетирования схемы на изготовленном кристалле, когда в нем оперативно исключаются прежние и формируются новые связи между элементами или узлами схемы путем коррекции топологии кристалла. <...> Макетирование схемы продолжается до тех пор, пока не будет получена схема, в которой устранен обнаруженный дефект. <...> На основе полученных данных производится проектирование новой топологии кристалла БИС. <...> В статье представлены методы оперативной коррекции топологии кремниевых БИС считывания информации с фотодиодных матриц, работающих в диапазоне от комнатных до криогенных температур [1–3]. <...> Методы редактирования Несмотря на применение современных <...>