Г.И. Будкера СО РАН 2 Новосибирск, Институт химии твердого тела и механохимии СО РАН Описана достаточно простая технология производства характеризующихся высокими уровнями рентгенопрозрачности, геометрической стабильности и прочности рентгенолитографических шаблонов с тонкими (толщиной ~ 40ч120 мкм) несущими мембранами на основе нового материала – эпоксидографита, представляющего собой заполимеризованную эпоксидную смолу с графитовым наполнителем. <...> Разновидностью данного материала, является суграфит, где в качестве связующей основы используется разработанный на базе эпоксидных смол промышленновыпускаемый негативный резист SU-8. <...> Шаблоны из суграфита внешне и по основным литографическим характеристикам ничем не отличаются от эпоксидографитовых, но имеют ряд дополнительных преимуществ, а именно, они характеризуются более высокими уровнями радиационной и температурной стойкости (температурный предел их разрушения ~ 380 °С), что обеспечивает возможность проведения с ними высокотемпературных операций (до 250 °С). <...> Дополнительным преимуществом эпоксидографитовых шаблонов, вытекающим из их электропроводности и прочности, является возможность использования при проведении рентгенолитографии электростатического прижима, что позволяет заметно улучшить качество формируемого топологического рисунка. <...> Приведены проиллюстрированные фотографиями первые результаты применения таких шаблонов в пучках синхротронного излучения в области длин волн экспонирующего излучения λ ≈ 0,5ч3 Е. <...> Рассмотрены перспективы применения в более мягком спектральном диапазоне λ ≈ 3ч7 Е, что позволит использовать их в качестве переходных шаблонов (для формирования резистивной маски при изготовлении ЛИГА-шаблонов), а также расширит диапазон материалов, используемых для обрабатываемых подложек (благодаря подбору экспонирующего спектра и снижению уровня флуоресценции от рабочей поверхности при их облучении <...>