Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634794)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Известия высших учебных заведений. Электроника  / №1 2015

Исследование структуры тонкого слоя алюминия на вицинальной поверхности подложки арсенида галлия методом высокоразрешающей электронной микроскопии (154,00 руб.)

0   0
Первый авторЛовыгин
АвторыБоргардт Н.И., Зайбт М., Казаков И.П., Цикунов А.В.
Страниц7
ID376540
АннотацияПредставлены результаты электронно-микроскопических исследований тонкого эпитаксиального слоя алюминия на разориентированной подложке арсенида галлия. Установлено, что слой состоит из зерен различных ориентаций, кристаллические решетки которых когерентно сопрягаются с подложкой с образованием дислокаций несоответствия, как и в случае слоя на сингулярной подложке. Визуализированы атомные ступени на поверхности подложки и обсуждено их влияние на рост кристаллических зерен алюминия.
УДК539.25; 620.187.3
Исследование структуры тонкого слоя алюминия на вицинальной поверхности подложки арсенида галлия методом высокоразрешающей электронной микроскопии / М.В. Ловыгин [и др.] // Известия высших учебных заведений. Электроника .— 2015 .— №1 .— С. 10-16 .— URL: https://rucont.ru/efd/376540 (дата обращения: 25.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

УДК 539.25; 620.187.3 Исследование структуры тонкого слоя алюминия на вицинальной поверхности подложки арсенида галлия методом высокоразрешающей электронной микроскопии М. <...> Цикунов3 1Национальный исследовательский университет «МИЭТ» 24-й Физический институт Геттингенского университета, Германия 3Физический институт им. <...> П.Н. Лебедева РАН (г. Москва) Structure of Thin Aluminum Layer Grown on Vicinal Surface of Gallium Arsenide Substrate Studied by High-Resolution Electron Microscopy M.V. <...> Lebedev Physical Institute, Russian Academy of Sciences Представлены результаты электронно-микроскопических исследований тонкого эпитаксиального слоя алюминия на разориентированной подложке арсенида галлия. <...> Установлено, что слой состоит из зерен различных ориентаций, кристаллические решетки которых когерентно сопрягаются с подложкой с образованием дислокаций несоответствия, как и в случае слоя на сингулярной подложке. <...> Визуализированы атомные ступени на поверхности подложки и обсуждено их влияние на рост кристаллических зерен алюминия. <...> Ключевые слова: алюминий; арсенид галлия; вицинальная поверхность; молекулярно-пучковая эпитаксия; высокоразрешающая просвечивающая электронная микроскопия. <...> Keywords: aluminum; gallium arsenide; vicinal surface; molecular beam epitaxy; high-resolution transmission electron microscopy единений на основе AIIIBV, являются объектом многочисленных исследований [1–3], главным образом вследствие их применения для создания выпрямляющих и омических Тонкие металлические слои, выращенные на подложках полупроводниковых со М.В. Ловыгин, Н.И. Боргардт, М. <...> Система Al/GaAs(100), выращиваемая методом молекулярно-пучковой эпитаксии (МПЭ), – одна из наиболее используемых и хорошо изученных, в том числе из-за возможности формирования на ее основе контактов Шоттки. <...> Известно [5, 6], что на кристаллографически точно ориентированной (сингулярной) поверхности подложки тонкий эпитаксиальный слой Al растет по островковому механизму и состоит из кристаллических зерен трех ориентаций: Al(100), Al(110) и Al(110)R. <...> Соотношение между этими ориентациями и размер <...>