ФОТОЭЛЕКТРОНИКА УДК 621.383.4/5:621.315.59 Структурные свойства подложек кадмий-цинк-теллур для выращивания твердых растворов кадмий-ртуть-теллур Е. В. Пряникова, А. Е. Мирофянченко, Н. А. Смирнова, А. А. Силина, И. Д. Бурлаков, М. Б. Гришечкин, И. А. Денисов, Н. И. Шматов В работе представлены экспериментальные результаты исследования и анализа структурных свойств подложек кадмий-цинк-теллур (КЦТ), предназначенных для эпитаксии кадмийртуть-теллур (КРТ), методами рентгеновской дифрактометрии, селективного травления, инфракрасной микроскопии. <...> Показана взаимосвязь формы и полной ширины на полувысоте кривой качания со структурными дефектами, присутствующими в материале. <...> Преципитаты и включения второй фазы, присутствующие в материале подложки в количестве 102— 104 см-2, не оказывают влияния на значения полной ширины на полувысоте кривой качания. <...> Уширение кривой качания вызвано повышенной плотностью дислокаций (>8 105), либо их ячеистым характером распределения. <...> Построены карты распределения значений полной ширины на полувысоте кривой качания для определения структурного совершенства по всей площади образцов, позволяющие проводить оценку пригодности пластин для дальнейшего технологического процесса. <...> E-mail: lab27@giredmet.ru Статья поступила в редакцию 30 марта 2016 г. © Пряникова Е. В., Мирофянченко А. Е., Смирнова Н. А., Силина А. А., Бурлаков И. Д., Гришечкин М. Б., Денисов И. А., Шматов Н. И., 2016 Пряникова Екатерина Васильевна, инженер 2 кат. <...> Наибольшая чувствительность МФПУ в дальнем ИК-диапазоне спектра 8—12 мкм достигнута для фотодиодных матриц на основе твердых растворов кадмий-ртуть-теллур (КРТ) [3]. <...> Основными способами получения таких структур являются эпитаксиальные методы выращивания, которые предъявляют высокие требования к качеству используемого подложечного материала. <...> Несмотря на высокую стоимость, наиболее предпочтительным подложечным материалом для КРТ являются согласованные по параметру решетки твердые растворы <...>