51, № 3 УДК 621.535 ПРЯМАЯ ЛАЗЕРНАЯ ЗАПИСЬ В ПЛ¨ ЕНКАХ ХРОМА ПОЛУТОНОВЫХ МИКРОИЗОБРАЖЕНИЙ С БОЛЬШИМ ДИНАМИЧЕСКИМ ДИАПАЗОНОМ∗ А. Г. Полещук, В. П. Корольков, А. Г. Седухин, А. Р. Саметов, Р. В. Шиманский Институт автоматики и электрометрии СО РАН, 630090, г. Новосибирск, просп. <...> Академика Коптюга, 1 E-mail: poleshchuk.a.g.@iae.nsk.su Разработан и исследован метод прямой лазерной термохимической записи в тонких плёнках хрома полутоновых микроизображений. <...> Метод включает в себя экспонирование плёнки хрома сфокусированным лазерным пучком с изменяющейся мощностью и проявку в селективном травителе. <...> Получен диапазон изменения пропускания более чем в 100 раз. <...> Нелинейность зависимости пропускания плёнки хрома от мощности экспонирующего пучка устраняется программной коррекций. <...> Данный растр применён в модифицированном датчике Шэка — Гартмана. <...> Ключевые слова: лазерная запись, лазерное окисление, термохимические реакции, аподизация, датчик Шэка — Гартмана. <...> Полутоновая маска (ПМ) представляет собой оптическую подложку с тонким нанесённым слоем вещества, коэффициент пропускания которого плавно меняется по заданному закону, образуя полутоновое микроизображение. <...> Полутоновая литография [1], основанная на применении полутоновых фотошаблонов, играет ключевую роль при производстве высокоэффективных рельефно-фазовых дифракционных элементов [2]. <...> Данная технология также используется для изготовления трёхмерных микромеханических структур (MEMS) [3] и микросистемной техники. <...> Другое важное применение ПМ — это аподизация оптических систем [4]. <...> Ранее ПМ изготавливались с помощью фотографических эмульсий [5] и имели достаточно большую зернистость, толщину, малую механическую прочность и существенную усадку после жидкостного проявления. <...> Изготовление ПМ с помощью прямой электронно-лучевой или лазерной записи на специальных стёклах (HEBS, LDW) [6] или аморфным плёнкам (Si, Sn, In) [7, 8] позволяет ∗Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных <...>