Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 635151)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Известия высших учебных заведений. Серия "Химия и химическая технология"  / №2 2011

База данных для реакции вытеснения, реализующейся в условиях потока, с последующим ионометрическим детектированием (90,00 руб.)

0   0
Первый авторЕвсевлеева
АвторыКирик М.С.
ИздательствоМ.: ПРОМЕДИА
Страниц3
ID267493
АннотацияСоздана база данных, посредством которой возможен выбор химической конфигурации системы для реакций вытеснения в условиях стационарного потока.
УДК543
ББК24.апр
Евсевлеева, Л.Г. База данных для реакции вытеснения, реализующейся в условиях потока, с последующим ионометрическим детектированием / Л.Г. Евсевлеева, М.С. Кирик // Известия высших учебных заведений. Серия "Химия и химическая технология" .— 2011 .— №2 .— С. 18-20 .— URL: https://rucont.ru/efd/267493 (дата обращения: 07.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

УДК 543.57.2 Л.Г. Евсевлеева, М.С. Кирик БАЗА ДАННЫХ ДЛЯ РЕАКЦИИ ВЫТЕСНЕНИЯ, РЕАЛИЗУЮЩЕЙСЯ В УСЛОВИЯХ ПОТОКА, С ПОСЛЕДУЮЩИМ ИОНОМЕТРИЧЕСКИМ ДЕТЕКТИРОВАНИЕМ (Ангарская государственная техническая академия) e-mail: cpk@agta.ru Создана база данных, посредством которой возможен выбор химической конфигурации системы для реакций вытеснения в условиях стационарного потока. <...> Ключевые слова: реакция вытеснения, условная константа равновесия, потенциалопределяющий ион ВВЕДЕНИЕ При осуществлении аналитических реакций в потоке с последующим ионометрическим детектированием, в том числе и реакций вытеснения, химико-аналитическая система проходит через ряд последовательных, возможно, альтернативных состояний. <...> В общем виде сущность приема вытеснения может быть передана следующей схемой: M М Y MY M n * M nL M L* * , где М, М* - определяемый и вытесняемый металл соответственно, Y – вспомогательный комплексонат, L – электродноактивное соединение (ЭАС), nL,M L – принадлежность фазы мембраны. <...> Величина сигнала h, связанная с химиче* n скими параметрами системы, может быть найдена по формуле [1]: h M L C L * n n K где ' ' K С M ' C Y C M Y DMCLCY * * m n 1 * , MY / M Y M L , * n сия реакции вытеснения, С(M*Y) – концентрация потока, С(L) – концентрация электродноактивного соединения, С(М) – концентрация определяемого металла, С(Y) – концентрация вспомогательного комплексоната, MY , M Y , M L – константы * * n устойчивости комплексов, величины которых доступны благодаря справочной литературе, D – коэффициент дисперсии, – степень протекания реакции. константы ' Следует отметить, что величина условной K должна быть скорректирована на побочные реакции протонирования комплекса Y и лиганда L ( Y ,n и ла M ( M,OH ) и М*( M ,OH* L,n ) и на гидролиз метал), на влияние побочной реакции субстехиометрического избытка комплексона с (Y’), на реакцию металла М*L с 18 K – условная константа суммарного равнове(1) * M Y * , lgK ' 1 C Y M Y . ' * чина lgK’ может быть найдена: ' , lg M <...>